Silicida di Cobalt, CoSi2

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Silicida di Cobalt, CoSi2

A formula chimica CoSi2. U pesu moleculare hè 115.11. Cristallu ortorombicu marrone scuru. U puntu di fusione hè 1277 ℃, è a densità relativa hè 5,3. Pò esse oxidatu à 1200 ℃ è erosione a so superficia;


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Disilicida di Cobalt
A formula chimica CoSi2. U pesu moleculare hè 115.11. Cristallu ortorombicu marrone scuru.
U puntu di fusione hè 1277 ℃, è a densità relativa hè 5,3. Pò esse oxidatu à 1200 ℃ è erosione a so superficia;

Reagisce cù u cloru à 300 ℃. Hè erosu da u fluoruru d'idrogenu, l'acidu nitricu diluitu è ​​cuncintratu è l'acidu sulfuricu, è pò ancu esse gravemente erosione da alcali forti fusi. Agisce pianu pianu cù l'acidu cloridru concentratu caldu in ebullizione. CoSi2, cun bassa resistività è bona stabilità termica, hè largamente adupratu cum'è cuntattu in LSI. Inoltre, CoSi2 hà una struttura cristallina simile à quella di Si, dunque pò formà una struttura epitaxiale CoSi2 / Si nantu à un substratu di Si per studià e caratteristiche d'interfaccia di u siliziu metallicu epitaxiale. E nanostrutture silicidiche anu applicazioni putenziali in una seria di campi di nanoelettronica: e nanostrutture di silicidi semiconduttori (FeSi2) ponu esse aduprate per preparà dispositivi attivi nanoelettronici, chì ponu avè applicazioni assai impurtanti in dispositivi nano emettenti di luce basati in siliciu; è i silicidi metallichi (CoSi2, Nisi2) ponu esse aduprati cum'è nanofili in urdinatori quantichi è urdinatori terahertz nano circuiti tolleranti à difetti in u futuru. Perchè i fili epitassiali di silicide ponu esse preparati nantu à sustrati di silicuu, e so pruprietà seranu assai migliurate paragunatu cù i nanofili metallichi urdinarii perchè ùn ci hè micca cunfine di granu; metallicu


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